Конструкция рабочего стула должна обеспечивать поддержание рациональной рабочей позы при работе, что позволит изменять позу для снижения статического напряжения мышц шейно-плечевой области и спины для предупреждения развития утомления.

Тип рабочего стула должен выбираться в зависимости от характера выполняемой работы. Рабочий стул должен быть подъемно-поворотным и с регулируемым углом наклона сиденья и спинки, а также расстоянием спинки от переднего края сиденья. При этом регулировка каждого параметра должна быть независимой, легко осуществляемой и иметь надежную фиксацию.

Рабочее кресло должно, иметь подлокотники. Ширина и глубина поверхности сиденья должна составлять не менее 400 мм. Высота опорной поверхности спинки должна быть не менее 300 мм, ширина -- не менее 380 мм. Радиус ее кривизны в горизонтальной плоскости 400 мм. Угол наклона спинки должен изменяться в пределах 90--110° к плоскости сидения.

Материал покрытия рабочего кресла должен обеспечивать возможность легкой очистки от загрязнений. Поверхности сиденья и спинки должны быть полумягкими, с нескользящим, не электризующимся и воздухопроницаемым' покрытием.

На рабочем месте необходимо оборудовать подставку для ног. Ее длина должна составлять 400 мм, ширина 350 мм. Необходимо предусматривать регулировку высоты подставки в пределах до 150 мм и угла ее наклона до 20 градусов. Поверхность подставки должна быть рифленой и иметь по переднему краю бортик высотой 10 мм.

При организации рабочих мест для работы на ПЭВМ необходимо предусматривать:

- пространство по глубине не менее 850 мм с учетом выступающих частей оборудования для нахождения человека-оператора:

- пространство для ног глубиной и высотой не менее 150 мм и шириной не менее 530 мм:

- расположение устройств ввода-вывода информации, обеспечивающее оптимальную видимость экрана:

- легкую досягаемость органов ручного управления в зоне моторного поля:

- по высоте -- 900--1300 мм. по глубине -- 400--500 мм;

- расположение экрана ПЭВМ в месте рабочей зоны. обеспечивающее устройство зрительного наблюдения в вертикальной плоскости под углом +30 градусов от нормальной линии взгляда оператора, а также устройство использования ПЭВМ (ввод-вывод информации при корректировке основных параметров технологического процесса, отладка программ и др.), одновременно с выполнением основных производственных операций (наблюдение за технологическим объектом и др.)

- возможность поворота экрана вокруг горизонтальной и вертикальной осей.

- Клавиатуру следует располагать на поверхности стола на расстоянии 100--300 мм от края, обращенного к пользователю, или на специальной регулируемой по высоте рабочей поверхности, отделенной от основной столешницы.

5.4 Требования к естественному и искусственному освещению

Помещения с ПЭВМ (ПК) должны иметь естественное и искусственное освещение.

Естественное освещение должно осуществляться через боковые светопроемы, ориентированные преимущественно на север и северо-восток. Величина коэффициента естественной освещенности (КЕО) должна соответствовать нормативным уровням по СНиП 23-05-95 "Естественное и искусственное освещение" и создавать КЕО не ниже 1,2% в зонах с устойчивым снежным покровом и не ниже 1,5% на остальной территории.

Искусственное освещение следует осуществлять в виде системы комбинированного освещения. В качестве источников света рекомендуется применять люминесцентные лампы типа ЛБ. Освещенность на поверхности стола в зоне размещения рабочего документа должна быть 300--500 лк. Местное освещение не должно создавать бликов на поверхности экрана и увеличивать освещенность экрана более 300 лк.

Общее освещение следует выполнять в виде сплошных или прерывистых линий светильников, расположенных сбоку от рабочих мест, параллельно линии зрения пользователя при разном расположении ПК. При периметральном расположении компьютеров линии светильников должны располагаться локализованно над каждым рабочим столом ближе к его переднему краю.

Применение светильников без рассеивателей и экранизирующих решеток не допускается. Показатель ослепленности для источников общего искусственного освещения не должен превышать 20.

Яркость светильников общего освещения в зоне углов излучения от 50 до 90° с вертикалью в продольной и поперечной плоскостях должна составлять не более 200 кд/м2, защитный угол должен быть не менее 40°.

Соотношение яркости между рабочими поверхностями не должно превышать 3:1 -- 5:1, а между рабочими поверхностями и столами 10:1.

Светильники местного освещения должны иметь не просвечивающийся отражатель с запретным углом не менее 40°.

В качестве источников искусственного освещения должны применяться преимущественно люминесцентные лампы типа ЛБ. Допускается использование ламп накаливания в местном освещении. Чистку стекол оконных рам и светильников осуществлять не реже двух раз в год.

5.5 Требования к микроклимату и ионизации воздушной среды

В производственных помещениях, в которых работа на ПЭВМ (ПК) является основной, должны обеспечиваться оптимальные параметры микроклимата, указанные в таблице 5.2.

Таблица 5.2 Оптимальные параметры микроклимата

Примечания:

- к категории 1а -- относятся работы, производимые сидя и не требующие физического напряжения, при которых расход энергии составляет до 120 ккал/ч:

- к категории 16 -- относятся работы, производимые сидя, стоя или связанные с ходьбой и сопровождающиеся некоторым физическим напряжением, при которых расход энергии составляет от 120 до 150 ккал/ч.

5.6 Требования к шуму и вибрации

Производственные помещения, в которых для работы используются ПЭВМ (ПК), не должны граничить с помещениями, в которых уровни шума и вибрации превышают нормируемые значения.

Уровни вибрации в производственных помещениях при работе на ПК не должны превышать следующих значений (по виброскорости) на частотах 2, 4, 8, 16, 31,5, 63 Гц соответственно 79, 73, 67, 67. 67, 67дБ, корректированные значения и их уровни в дБ "А"--72дБ.

5.7 Требования к ионизирующим и неионизирующим излучениям

Основным источником электромагнитных излучении от мониторов ПЭВМ (ПК) является трансформатор высокой частоты строчной развертки.

Конструкция монитора ПЭВМ должна обеспечивать мощность экспозиционной дозы рентгеновского излучения в любой точке на расстоянии 0,05 м от экрана и корпуса монитора ПК при любых положениях регулирующих устройств и не должна превышать 7,74х10 А/кт, что соответствует эквивалентной дозе, равной 0.1 мбэр/час (100 мкр/час).

Напряженность электромагнитного поля на расстоянии 50 см вокруг ПЭВМ по электрической составляющей должна быть не более:

- в диапазоне частот 5 Гц--2 кГц -- 25 в/м,

- в диапазоне частот 2-- 400 кГц -- 2,5 в/м.

- Плотность магнитного потока индукции должна быть не более:

- в диапазоне частот 5 Гц--2 кГц -- 250 нТл,

- в диапазоне частот 2--400 кГц -- 25 нТл.

5.8 Оптимизация трудовой деятельности пользователей ПЭВМ (ПК)

Оптимизация (меры профилактики) трудовой деятельности при работе на персональных компьютерах включает:

- мероприятия по оптимизации рабочих мест;

- мероприятия по оптимизации зрительной и световой обстановки (снижение зрительного утомления и улучшение условий освещения);

- мероприятия по снижению шума;

- мероприятия по улучшению состояния воздушной среды рабочих помещений:

- мероприятия по снижению интенсивности ЭМ излучений;

- рационализация режима труда и отдыха.

Заключение

В рамках данной работы был создан пакет программ тестирования и обучения специалистов по неразрушающему контролю. В программном продукте реализована простая, и вместе с тем универсальная, схема построения теста и вычисления оценок. Благодаря этому, достигается достаточная надёжность функционирования программы. Из-за простой реализации алгоритма программа легко отлаживается и тестируется, что снижает вероятность обнаружения ошибок в алгоритме. За счёт универсальности модели теста и наличии отдельной программы-редактора данный пакет программ можно применять для тестирования и обучения по другим тематикам. Отдельное внимание в работе уделено также и вопросам защиты информации. Разработка системы защиты не являлась целью работы, однако программы оснащены базовыми средствами защиты - парольной защитой на вход в программу и защита данных от просмотра.

Список использованных источников

Обучающие машины и комплексы: Справочник / Под общей ред. А.Я. Савельева. Киев: Вища шк.,Головное изд-во. 1986. 303с.

Каталог программных средств учебного назначения. М.: НИИВО, 1991. 66с.

Цевенков Ю.М., Семенова Е.Ю. Информатизация образования в США. М., 1990. 80с. (Новые информационные технологии в образовании: Обзор. инф./НИИВО; вып. 8).

Цевенков Ю.М., Семенова Е.Ю. Эффективность компьютерного обучения. М., 1991. 84с. (Новые информационные технологии в образовании: Обзор. инф./НИИВО; вып. 6).

Коваленко В.Е., Кольцова Н.Е., Лобанов Ю.И., Ремизова Е.А., Соловов А.В. Базы знаний учебного назначения. М., 1992. 60с. (Новые информационные технологии в образовании: Обзор. инф./НИИВО; вып.2).

Человеческий фактор. В 6 т. Т.3. Моделирование деятельности, профессиональное обучение и отбор операторов: Пер. с англ./Холдинг Д., Голдстейн Н., Эбертс Р. и др. (Часть 2. Профессиональное обучение и отбор операторов). М.: Мир, 1991.302с.

Архангельский А.Я. Язык SQL в Delphi 5 - М.: ЗАО «Издательство БИНОМ», 2000. - 208 с.

Миллер Т. Использование Delphi 3. Специальное издание. : Пер. с англ. - К.: Диалектика, 1997. - 768 с.

Назаров А.К. Теоретические основы безопасности жизнедеятельности: Учебное пособие. - Курган, 1993. - 119 с.

Марченко А.И., Марченко Л.А. Программирование на языке Turbo Pascal 7.0 - М.: Бином Универсал, К.: ЮНИОР, 1997. - 496 с.

Дэйт К. Введение в системы баз данных. - М.: Диалектика, 1997. - 235 с.

Фаронов В.В., Шумаков П.В. Delphi 4. Руководство разработчика баз данных. - М.: Нолидж, 1999. - 453 с.

Страницы: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14